Keramieksubstraat

Elektronische Al2O3 van het Aluminiumoxyde de Raadsplaat op hoge temperatuur van het Keramieksubstraat

De Platen van het Substraatbladen van de zirconiumdioxydezro2 Keramiek

Verdun van het Nitridesubstraten van het Filmsi3n4 Silicium het Wafeltjeblad voor Machtselektronika

Zandstraal Laser Ritsend Zirconiumdioxydealumina het Hoge Warmtegeleidingsvermogen van het Keramieksubstraat

Al2O3 van 3.9g cm3 de Ceramische Aluminiumoxidealumina Plaat van het Vuurvaste Bakstenenblok

3.8g cm3 1.5mm Laser die van de Precisie de Industriële Plak Si3O4 Keramieksubstraten machinaal bewerken

Laser die 0.3mm 0.38mm 0.5mm 0.635mm 1mm Alumina 99 de Plaat van het Keramieksubstraat snijden

De geïsoleerde Zwarte 94 ZrO2-van de Weerstandsheatsink van het Zirconiumdioxyde Ceramische Substraat Hoge Hardheid

2500Mpa de niet Magnetische Elastische Dunne Si3N4-Plaat van het het Bladwafeltje van het Siliciumnitride Elektro

39W het elektronische Si3n4-de Plaatwafeltje van het Keramieksubstraat Isoleren Op hoge temperatuur

Tolerance 0.005mm Ceramics Substrate For Opto-Communication Aluminum Nitride Disc For IGBT Package

Optical Communication Packaging Aluminum Nitride Ceramic Substrate

Smooth Surface Roughness Ceramics Substrate With Dielectric Constant 8-9 10x10mm

Dielectric Constant 8-9 AIN Ceramic Substrate for Semiconductor Power Module

170-230W/M.K Ceramic Substrate Plate For Semiconductor Power Module

AIuminum Nitride Ceramics Substrate for Power Devices with Thermal Conductivity 170-230W/m.k

Smooth Aluminum Nitride Ceramic Substrate for with Dielectric Constant of 8-9

Smooth Surface Ceramics Substrate For HBLED, Opto-Communication, IGBT, Power Devices, TEC

Polished Ceramic Substrate Plate 10x10mm for Customer Requirements

Hoge Zuiverheid 99,7% Alumina Ceramische Dunne Filmsubstraten voor Electrocircuit